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化学机械研磨工艺研发专家-TD CMP Process Expert(J14108)

长鑫存储技术有限公司

  • 北京市
  • 研发技术类

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岗位职责

  1. 工艺研发与优化:主导CMP工艺的研发与优化,通过调整工艺参数确保产品平坦度及缺陷控制满足高精度制造需求;
  2. 参数监控与良率提升:通过数据分析监控CMP过程中的关键参数,定位异常波动并制定改善方案,降低缺陷率并提升良率;
  3. 故障排查与闭环:针对CMP工艺问题完成根因分析,提出并实施有效解决方案,推动问题闭环;
  4. 技术指导与团队赋能:为研发团队提供CMP工艺技术指导,协助解决生产中的技术难题,并主导新员工的CMP专业培训,提升团队整体能力;
  5. 跨部门技术推进:协同材料供应商及设备制造商,推动新材料、新工艺的应用验证与导入。

职位要求

  1. 教育背景与专业知识:硕士或博士学位,材料科学/化学/物理或相关工程领域,有半导体制造或CMP工艺专门研究经历者优先;
  2. 行业与专业经验:具备8年以上CMP工艺开发或生产经验,熟悉半导体制造流程,有大型半导体公司工作经验者更佳;
  3. 专业技能与资格:能独立完成CMP工艺优化与问题解决,熟悉Oxide/Poly/W/Cu/Carbon/ALOX等多种制程类型,掌握CMP耗材(研磨液、研磨垫)性能选择,能使用CMP机台终点检测/R2R/IAPC功能完成工艺调节;
  4. 项目/任务成果:主导过至少1个CMP技术改进或新材料评估项目,并输出可量化的良率或缺陷改善结果;
  5. 其他要求:具有多任务管理能力,能承担高强高压工作;英语具备良好听说读写能力,能开展英文技术交流。

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