岗位职责
- 负责WET 干湿法清洗制程工艺相关问题的分析和处理 优化chemical，气体清洗方法工艺参数，提升器件性能及良率；
- 设计并执行DOE实验，分析工艺窗口，推动WET工艺的持续改进；
- 对化学品，气体特性（如反应机理，速率，等）进行深度分析，识别关键影响因素；
- 与器件设计、整合、制造等部门紧密合作，确保WET工艺满足产品性能需求；
- 支持新工艺从研发到量产的转移，协助解决量产过程中的工艺问题。
职位要求
- 硕士及以上学历；
- 化学工程、电子工程、材料科学、等相关专业；
- 2年以上工作经验；
- 熟悉DRAM/CMOS相关的电性及可靠性特性；
- 具备先进CMOS工艺开发经验（如HKMG高介电金属栅极技术）者优先；
- 良好的沟通与团队协作能力；擅长解决复杂问题，有领导跨职能专项任务组的经验。
