岗位职责
- DFM规则与Pattern开发： 主导DFM设计规则的制定，基于工艺热点规范设计规则以识别优化点，并开发PatternMatch标准约束阵列及热点区域；
- Dummy方案设计与规则自洽： 开发Dummy填充规范，涵盖平坦度与frame设计，确保与设计规则自洽并持续优化；
- 光学与CMP模型构建： 开发LFD模型对热点进行规避审查，同时收集工艺数据建立CMP模型并整合至仿真平台，实现CMP热点的预测与规避；
- 工艺热点研究与良率预测： 研究项目工艺热点，分析并预测数据窗口，为良率预测提供支撑，并应用AI方法提前发现热点问题并输出解决方案。
职位要求
- 教育背景与专业知识：硕士及以上学历，半导体相关专业优先；
- 专业技能与资格：能制定Dummy填充标准，能使用DFM EDA工具或版图工具完成设计分析；具有AI Agent项目经验者优先；
- 行业与专业经验：具有一年以上PIE或CMOS工艺背景经验，或OPC、Design Rule等方向工作经验。
