岗位职责
- 制程问题攻坚：主导光刻工艺异常的根本原因分析，制定解决方案并推动落地；
- 工艺优化与创新：通过参数调优、新材料/设备评估，持续提升量产良率与效率；
- 技术路线开发：领导下一代光刻工艺的预研与技术突破；
- 专案与团队管理：统筹跨部门专案（如良率提升、成本优化），指导工程师团队达成目标。
职位要求
- 教育背景与专业知识：硕士及以上学历，微电子、材料、物理、化学工程等光刻相关专业；
- 行业与专业经验：12英寸晶圆厂光刻（Photo）工艺开发/量产经验≥8年，兼具研发与量产背景者优先；
- 专业技能与资格：精通光刻工艺全流程（涂胶、曝光、显影、检测）及配套设备（Scanner、Track）；熟悉分辨率增强技术（RET）、OPC建模等关键模块；
- 其他要求：能系统性分析复杂工艺问题，提出创新性解决方案；高效联动整合、良率、设备团队推动技术落地；持续追踪光刻领域技术动态。
