岗位职责
- 主导CMP设备的结构设计、功能改进与性能调优，确保设备满足不同工艺节点（如14nm、7nm及以下）对平坦化精度、均匀性和缺陷控制的严苛要求。
- 制定并执行设备日常巡检、预防性维护和突发故障应急方案，快速定位机械、流体或控制系统异常，最大限度减少停机时间，保障产线连续运转。
- 负责新购CMP设备的采购支持、安装验收、工艺匹配性验证及量产导入，确保设备性能达标并符合生产环境规范。
- 组织对设备工程师、技术员的技能培训，涵盖安全操作、基础维护、故障排查等内容，提升团队整体响应能力。
职位要求
- 本科及以上学历，理工科背景优先。
- 5年以上化学机械抛光设备经验。
- 具备重大项目管理及推进经验优先。
